Para a produção de amostras:

• Câmara de deposição por técnicas assistidas por plasma: erosão catódica (dc- e rf-magnetron sputtering) e Deposição Química Assistida por Plasmas (PECVD);
• Câmara de deposição por técnicas físicas (PVD): evaporação térmica e por feixe de elétrons;
• Sistema de crescimento de nanotubos de carbono por spray pirólise;
• Sistema de crescimento de nanotubos por LPCVD (Low-pressure CVD);
• Sistema de crescimento de grafeno por APCVD (Atmospheric Pressure CVD);
• Forno até 900oC para tratamento térmico em alto-vácuo ou em atmosferas controladas;
• Plasma cleanner;
• Politrizes para preparação de superfícies metálicas;
• Ponta de ultra-som para dispersão de sólidos;
• Ultra-centrífuga;
• Balança analítica de precisão Shimadzu;
• Capela

Para a caracterização de amostras:

• Nanoindentador TriboIndenter da Hysitron;
• Sistema micrométrico de desgaste por esfera girante CALOWEAR da CSM;
• Goniômetro para medida de ângulo de contacto da Rame-Hart;
• Microscópio eletrônico de varredura FEG (Field emission gun) com EDS e STEM da JEOL modelo JSM-6701F;
• Microscópios óticos direto (ZEISS AXIO) e invertido (Olympus);
• Microscópio de Tunelamento, SPM UHV, Omicron;
• Microscópio de força atômica e espectrômetro Raman acoplados – SistemaNTegra Spectra da NT-MDT;
• Espectrômetro Infra-Vermelho Brucker modelo ALPHA FTIR;
• Perfilometro Brucker Dektak XT 10;
• Sistema para medidas elétricas Signatone;
• Câmara para análise de superfícies equipado com a técnica XPS da VG Thermo equipado com analisador de elétrons semiesférico com raio de 110 cm Alpha 110